废气进入设备后，首先通过高能离子区域，废气分子及空气被高能离子轰击，废气分子被轰击为小分子及CO₂和水，空气分子中的氧气及水分子被轰击后转变为臭氧、羟基自由基等活性氧分子，这些活性氧分子继续氧化废气分子为易降解的小分子有机物或CO₂和水。之后废气分子进入光催化氧化区域，UV灯照射TIO2催化网，产生光子，与空气反应产生具有强氧化性的羟基自由基和臭氧等活性氧分子，废气分子被彻底氧化废气分子为CO2和水。最后剩余的废气分子被活性炭吸附捕捉去除。

1、 高能离子工作原理

高能离子体是继固态、液态、气态之后的物质的第四态，当外加电压达到气体的着火电压时，气体被击穿，产生包括电子、各种离子、原子和自由基在内的混合体。放电过程中虽然电子温度很高，但重粒子温度很低，整个体系呈现低温状态，所以称为高能离子体。高能离子体降解污染物是利用这些高能电子、自由基等活性粒子和废气中的污染物作用，使污染物分子在极短的时间内发生分解，并发生后续的各种反应以达到分解污染物的目的。

在“高能离子工业废气净化模块”系列产品是利用产生的高能高能离子激活、电离、裂解废气中的各种成份，从而发生一 系列复杂的化学反应，将有害物转化为洁净的无害的物质达标排放至大自然。
气体经过高能离子处理装置的反应器区域时，高能电子和自由基强氧化等多重作用下，气体中的有机物分子链被断开，发生一系列复杂的氧化还原反应，生成 CO2、H2O 等无害物质，正负离子可以清新空气。另外，借助高能离子体中的离子与物体的凝聚作用，可以对有机废气中小至亚微米级的细微颗粒物（0.1-3 微米）进行有效的收集去除。
    废气组分去除过程如下：

过程一：高能电子的直接轰击

过程二：O原子或臭氧的氧化 
           O₂+e→2O
 过程三：OH自由基的氧化
            H₂O+e→OH+H
            H₂O+O→2OH
            H+O₂→OH+O
    过程四：分子碎片+氧气的反应

2、 光催化氧化工作原理

光催化是利用二氧化钛（TiO2）作为催化剂的光催化过程，反应条件温和，光解迅速，产物为二氧化碳（CO2）和水（H2O）或其它，而且适用范围广，包括烃、醇、醛、酮、氨等有机物，都能通过二氧化钛光催化清除。其机理主要是光催化剂二氧化钛吸收光子，与周围的水和氧气发生作用，结合生成羟基自由基(·OH)和活性氧物质（·O，H2O2），其中羟基自由基(·OH)是活性高，氧化性强，能迅速有效地分解挥发性有机物，再加上其它活性氧物质(·O，H2O2)的协同作用，效果更为明显。

光催化氧化原理图

不同类型有机物的光催化降解

3、 活性炭工作原理

活性炭的吸附可分为物理吸附和化学吸附。

1） 物理吸附

主要发生在活性炭去除气相中杂质的过程中。活性炭的多孔结构提供了大量的表面积，从而使其非常容易达到吸收收集杂质的目的。就象磁力一样，所有的分子之间都具有相互引力。正因为如此，活性炭孔壁上的大量的分子可以产生强大的引力，从而达到将介质中的杂质吸引到孔径中的目的。

2）化学吸附

除了物理吸附之外，化学反应也经常发生在活性炭的表面。活性炭不仅含碳，而且在其表面含有少量的化学结合、功能团形式的氧和氢，例如羧基、羟基、酚类、内脂类、醌类、醚类等。这些表面上含有地氧化物或络合物可以与被吸附的物质发生化学反应，从而与被吸附物质结合聚集到活性炭的表面。 

活性炭的吸附正是上述二种吸附综合作用的结果。

待净化的气体进入箱式活性碳吸附装置进行废气处理，活性炭依靠自身独特的空隙结构，内部孔隙结构发达、比表面积大、吸附能力强，使其具有强大的吸附功能，另外分子之间存在范德华力，当一个分子被活性炭内孔捕捉进入到活性炭孔隙中后，会导致更多分子不断被吸引，直至孔隙饱和，因此臭气进入该装置后，废气分子被活性炭吸附床吸附，气体从而得到净化。

1）主要针对含有挥发性有机物的气体；

2）可在室温下与催化剂反应，无需加热，极大地节约了能源；

3）介质阻挡放电产生高能电子，高能离子体密度大，几乎可以和所有的异味组分反应，无二次污染；

4）反应速度快，气体通过反应区的速度达到3-15米/秒，即达到很好的处理效果；

5）气体通过部分采用防腐材料，电极与废气不直接接触，不会产生设备腐蚀问题；

6）自动化程度高，操作简便，启停快，随用随开；

7）三级处理，处理效果稳定。

化工行业

喷漆行业

印刷行业

其他行业中低浓度有机废气